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绕开光刻机,攻克大难题!中科大又立功,光量子芯片获重大突破!
发表时间:2022-04-02

       在遭受了美国制裁后,中国目前已经意识到了半导体工业受制于人的巨大危险,开始奋起直追大力投资开发本国半导体技术,而为了能早日避开美国的封锁,中国也投入巨资开始研发新一代半导体技术,比如光子芯片和量子芯片等,最近一个好消息传来,中国中科大又立功了,他们在光量子芯片研发领域内获得了重大突破,成功开发出了国产的可编程光量子芯片,据称这种芯片虽然现在相比普通芯片还体现不出优势,但只要技术成熟,它就能发挥出比普通芯片强大数百倍的性能优势,并且这款光量子芯片还不需要使用美国的光刻机制造,可以说中科大这次绕开光刻机攻克了大难题,给中国半导体工业带来了突破美国封锁的希望。


      光量子芯片被全球专家认为是下一代半导体的发展方向,众所周知传统的芯片基于半导体材料硅,这种材料与其他材料相互作用时可以呈现各种特殊的电性能,因此可以被用于制造芯片,而光量子芯片则是一种全新的芯片,它在运行时可以用自带的激光器产生光子,并利用光子代替电子进行各种逻辑计算实现和半导体一样的能力,因为光子的运动速度远比电子快,并且耗能极低,光量子芯片的性能比普通芯片高出100倍甚至好几百倍,功耗却只相当于普通芯片的几分之一,一旦投入使用有望彻底颠覆整个半导体行业。


      称这次中国科学家实现的就是光量子芯片的一大突破,中国科学家综合利用各种新技术开发出了可以编程的光量子芯片,目前其他国家研发的光量子芯片为了降低技术风险都选择了固定逻辑,虽然在处理特定任务时性能远比普通芯片强悍,但处理其他任务时性能却就存在瓶颈,而中国开发的可编程光量子芯片可以通过编程完成多种任务,通用性更加强大,性能也丝毫不落后。


      更重要的是中国这次研发的光量子芯片不需要采用美国控制的光刻机技术就能制造,这意味着中国有望打破美国的光刻机封锁,众所周知普通芯片必须使用光刻机才能制造,虽然现在中国有能力研发光刻机,但却做不到西方产品那样的高性能,如果中国能成功将光量子芯片普及使用,就意味着中国不需要使用美国封锁的光刻机技术,也能制造高性能芯片,彻底打破西方国家在光刻机技术领域内的垄断。


      目前光量子芯片还存在很多问题,暂时无法走出实验室投入市场,但中国这次取得的突破意味着中国在这方面已经成为了世界顶尖,只要中国继续努力投入研发技术,最终就可以把光量子芯片投入使用,而依靠中国强大的产业链,只要光量子芯片被投入使用,中国就可以轻松对美国形成巨大优势,彻底颠覆被美国掌控的半导体产业。


     美国面对此景显然不会坐以待毙,目前美国也在开发自己的光量子芯片技术,并且也取得了不少成就,对此中国也一定不能掉以轻心,要继续开发更加强大的技术,争取占据未来半导体产业的主动权。

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